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肖特基接触,金属与半导体产生肖特基接触时的电流方向和原理是什么

来源:整理 时间:2024-12-20 12:35:43 编辑:智能门户 手机版

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1,金属与半导体产生肖特基接触时的电流方向和原理是什么

正向电压时,势垒下降 热激发的电子从金属流入半导体,形成正向电流。反向时势垒不变 阻止电子从半导体进入金属。

金属与半导体产生肖特基接触时的电流方向和原理是什么

2,什么是肖特基势垒

肖特基势垒是指具有整流特性的金属-半导体接触,就如同二极管具有整流特性。是金属-半导体边界上形成的具有整流作用的区域。

什么是肖特基势垒

3,金属与半导体之间的接触势垒是什么

 肖特基接触是指金属和半导体材料相接触的时候,在界面处半导体的能带弯曲,形成肖特基势垒。势垒的存在才导致了大的界面电阻。与之对应的是欧姆接触,界面处势垒非常小或者是没有接触势垒。

金属与半导体之间的接触势垒是什么

4,金属和半导体接触有哪些好处

欧姆接触,是指接触面的电阻值远小于半导体本身的电阻,大部分的电压降在于活动区而不在接触面。集成电路中金属引线将器件端接出全是欧姆接触。肖特基接触是指金属和半导体材料相接触的时候,在界面处半导体的能带弯曲,形成肖特基势垒。可用于制作肖特基二极管。二者分别是通过选择不同功函数的金属和半导体来实现的。
在一定范围内,半导体的电阻随温度的升高而降低,金属导体的电阻随温度的升高而升高由于电流通过后要产热,两个按一定比例串联接入电路后,刚好互补,从而使电阻不随温度的变化而变化
金属与半导体接触有两种类型:一个是肖特基接触势垒,另一个是欧姆接触!一般的本征半导体和金属接触产生肖特基势垒,如果半导体有很高的掺杂浓度,则接触近似为欧姆接触。

5,什么叫欧姆接触和肖特基接触

所谓欧姆接触,是指金属与半导体的接触,而其接触面的电阻值远小于半导体本身的电阻,使得组件操作时,大部分的电压降在于活动区(Active region)而不在接触面。 欲形成好的欧姆接触,有二个先决条件: (1)金属与半导体间有低的界面能障(Barrier Height) (2)半导体有高浓度的杂质掺入(N ≥10EXP12 cm-3) 前者可使界面电流中热激发部分(Thermionic Emission)增加;后者则使界面空乏区变窄,电子有更多的机会直接穿透(Tunneling),而同使Rc阻值降低。 若半导体不是硅晶,而是其它能量间隙(Energy Cap)较大的半导体(如GaAs),则较难形成欧姆接触 (无适当的金属可用),必须于半导体表面掺杂高浓度杂质,形成Metal-n+-n or Metal-p+-p等结构。 欧姆接触是半导体设备上具有线性并且对称的电流-电压特性曲线。如果电流-电压特性曲线不是线性的,这种接触便叫做肖特接触。

6,点接触二极管和肖特基二极管是什么关系

肖特基二极管的定义是金属-半导体势垒二极管,因此点接触检波二极管也是算肖特基二极管的一种。
肖特基二极管是属于低功耗、大电流、超高速的半导体器件,其特长是开关速度非常快,反向恢复时间可以小到几个纳秒,正向导通压降仅0.4v左右,而整流电流却可达到几千安。所以适合在低电压、大电流的条件下工作,电脑主机电源的输出整流二极管就采用了肖特基二极管。 肖特基二极管是以n型半导体为基片,在上面形成用砷作掺染剂的n一外延层。阳性(阻挡层)金属材料是钼。二氧化硅用来消除边缘区域电场,提高肖特基二极管的耐压值。n型基片掺杂浓度比n一层高100倍,具有很小的通态电阻。基片下部的n+阴极层用以减小阴极的接触电阻。通过调整结构参数,可在基片与阳极金属之间形成合适的肖特基二极管。 快恢复二极管是近年来问世的新型半导体器件,它具有开关特性好,反向恢复时间短、正向电流大、体积较小、安装简便等优点。可作高频、大电流的整流、续流二极管,在开关电源、脉宽调制器(pwm)、不间电源(ups)、高频加热、交流电机变频调速等电子设备中得到了广泛的应用,是极有发展前途的电力、电子半导体器件。 快恢复二极管的一个重要参数是反向恢复时间trr,其定义是:电流流过零点由正向转换成反向,再由反向转换到规定的值irr时的时间间隔,它是衡量高频续流、整流器件性能的重要技术参数。 快恢复二极管的内部结构与普通二极管不同,它是在p型、n型硅材料中间增加了基区i,构成p-i-n硅片。由于基区很薄,反向恢复电荷很小,不仅大大减小了trr值,还降低了瞬态正向压降, 使管子能承受很高的反向工作电压。快恢复二极管的反向恢复时间一般为几百纳秒,正向压降约为0.6v,正向电流是几安培至几千安培,反向峰值电压可达几百到几千伏。
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